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【简答题】

热蒸发法淀积薄膜的淀积速率与哪些因素有关？淀积速率的测量采用什么办法？

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题目标签：淀积蒸发法淀积薄膜
相关题库：半导体制造技术题库
参考答案：
参考解析：
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举一反三

【多选题】尿素溶液蒸发采用真空蒸发法的主要原因是()。
A.
节能
B.
安全
C.
防副反应
D.
防结晶
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【简答题】sio2的残留，二三氧化物及腐殖质淋溶及淀积的过程指的是
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【简答题】热分解化学气相淀积二氧化硅是利用()化合物，经过热分解反应，在基片表面淀积二氧化硅。
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【简答题】假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散，从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2。
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【简答题】真空蒸发法有什么优点?
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【多选题】在半导体工艺中，淀积的薄膜层应满足的参数包含有（）。
A.
均匀性
B.
表面平整度
C.
自由应力
D.
纯净度
E.
电容
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【多选题】对深宽比大于1的接触孔淀积薄膜,为使接触孔各处的薄膜厚度均匀,可采取的方法有:
A.
采用带准直器的溅射淀积方法；
B.
采用长投准直溅射技术；
C.
采用蒸发的方法；
D.
采用反应离子溅射的方法。
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【简答题】采用LPCVD TEOS淀积的是什么膜？这层膜的优点是什么？
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【填空题】二氧化硅的制备方法很多，其中最常用的是高温（）、（）淀积、PECVD淀积。
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【单选题】​通过气态物质的化学反应在晶圆表面淀积一层固态薄膜的工艺称为（）。
A.
热氧化
B.
物理气相淀积
C.
等离子淀积
D.
化学气相淀积
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