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【判断题】
溅射沉积时，离子只能远离衬底而轰击阴极靶材。
A.
正确
B.
错误
题目标签：
溅射
轰击阴极
阴极靶
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参考答案：
参考解析：
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举一反三
【多选题】离子溅射泵的构成包含哪些组件？（）
A.
高电压电源
B.
磁铁
C.
Ti阴极板
D.
阳极管
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【简答题】题目：射频磁控溅射法制备STO薄膜
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【简答题】题目：微颗粒表面磁控溅射镀膜研究
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【判断题】离子溅射镀膜与离子镀过程原理是一样的。
A.
正确
B.
错误
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【判断题】反应溅射是一种纯物理的过程。
A.
正确
B.
错误
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【多选题】溅射的方法非常多其中包括（）。
A.
直流溅射
B.
交流溅射
C.
反应溅射
D.
二级溅射
E.
三级溅射
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【单选题】磁控溅射中（）被磁气回路的磁力线捕获
A.
电子
B.
原子
C.
粒子
D.
分子
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【简答题】蒸发与溅射的区别是什么
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【简答题】为什么反应溅射沉积速率低？
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【单选题】在溅射镀膜过程中，靶材通常是放在 区进行的。
A.
阿斯顿暗区
B.
克鲁克斯暗区
C.
阴极辉光区
D.
负辉光区
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