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【简答题】
单晶硅制绒采用的是 (酸性或碱性)腐蚀液,多晶硅制绒采用的是 (酸性或碱性)腐蚀液。
题目标签:
晶硅
多晶硅
腐蚀液
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参考答案:
参考解析:
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举一反三
【单选题】直熔法生长的铸造多晶硅的主要特点是()
A.
利用高频感应线圈和辅助线圈加热多晶硅棒
B.
每一炉需要消耗一支坩埚
C.
有种晶、引细颈、放肩过程
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【判断题】多晶硅薄膜的电阻率比非晶硅和微晶硅薄膜的都要小。
A.
正确
B.
错误
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【简答题】沉积多晶硅栅材料采用什么CVD工具,列举多晶硅作为栅电极的6个原因。
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【简答题】同质结的、基体材料为单晶硅的、有背场的、外形尺寸为 125mm 的、转换效率为 17.6 的太阳能电池可以命名为 ____________________ 。
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【简答题】二氧化硅湿法刻蚀常采用的腐蚀液成分主要包含
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【单选题】非晶硅平板
A.
直接转换
B.
间接转换
C.
光电转换
D.
电光转换
E.
闪烁晶体
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【简答题】关于多晶硅内部的排列,下面说法正确的是()。
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【单选题】非晶硅平板探测器中,为减少光散射,碘化铯晶体形状加工成()
A.
扁平状
B.
针状
C.
颗粒状
D.
圆柱状
E.
粉状
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【单选题】单晶硅电池的制造工艺主要流程为()
A.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作电极→制作减反射膜
B.
表面处理→扩散制结→制作绒面→制作减反射膜→制作电极
C.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作减反射膜→制作电极
D.
表面处理→制作减反射膜→制作绒面→扩散制结→制作电极
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【简答题】非晶硅薄膜材料的结构特点是 程有序, 程无序。
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【单选题】非晶硅薄膜电池生产中第一次激光刻划的是______。
A.
导电玻璃TCO薄膜
B.
硅膜
C.
金属层
D.
边缘
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【单选题】工业上最常用的多晶硅制备方法是()。A. 三氯氢硅的氢还原法B. 直拉法C. 区熔法D. 沉积法
A.
沉积法
B.
直拉法
C.
区熔法
D.
三氯氢硅的氢还原法
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【单选题】单晶硅光伏电池表面的绒面结构呈()。
A.
三角形
B.
圆形
C.
倒金字塔形
D.
正方形
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【单选题】、 改良西门子法多晶硅制取不包括的主要工艺( )
A.
精馏
B.
提纯
C.
还原
D.
CDI
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【判断题】非晶硅薄膜电池的性能受温度影响比晶硅电池小很多。
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【单选题】强腐蚀液体的排液阀门,宜设()
A.
单阀
B.
球阀
C.
双阀
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【判断题】硅薄膜电池是制备在聚合物衬底或薄玻璃上的光伏电池结构,单晶硅、多晶硅均可作为其光伏转换材料,但非晶硅不可。
A.
正确
B.
错误
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【简答题】膜盒式电容气压传感器的感应元件为()。当大气压力产生变化时,使真空膜盒(包括金属膜盒和单晶硅膜盒)的弹性膜片产生形变而引起其电容量的改变。通过测量()来计算本站气压。
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【单选题】下列不属于单晶硅太阳能电池片的生产工序是( )
A.
PECVD
B.
丝网印刷
C.
制绒
D.
层压
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【简答题】版图中MOS管的沟道长由多晶硅栅的宽度确定
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A.
正确
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针状
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颗粒状
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圆柱状
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粉状
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A.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作电极→制作减反射膜
B.
表面处理→扩散制结→制作绒面→制作减反射膜→制作电极
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表面处理→制作绒面→扩散制结→制作减反射膜→制作电极
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边缘
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沉积法
B.
直拉法
C.
区熔法
D.
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A.
三角形
B.
圆形
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倒金字塔形
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正方形
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精馏
B.
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还原
D.
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B.
错误
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PECVD
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