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【简答题】

关于多晶硅内部的排列,下面说法正确的是()。

题目标签:晶硅多晶硅内部
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参考答案:
参考解析:
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举一反三

【单选题】直熔法生长的铸造多晶硅的主要特点是()

A.
利用高频感应线圈和辅助线圈加热多晶硅棒
B.
每一炉需要消耗一支坩埚
C.
有种晶、引细颈、放肩过程

【单选题】从项目周期阶段各项工作运行和管理角度,可以把项目的内部管理分为( )两个层次。

A.
咨询管理和承包管理
B.
决策管理和执行管理
C.
前期管理和实施管理
D.
决策管理和施工管理

【单选题】非晶硅平板

A.
直接转换
B.
间接转换
C.
光电转换
D.
电光转换
E.
闪烁晶体

【单选题】单晶硅电池的制造工艺主要流程为()

A.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作电极→制作减反射膜
B.
表面处理→扩散制结→制作绒面→制作减反射膜→制作电极
C.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作减反射膜→制作电极
D.
表面处理→制作减反射膜→制作绒面→扩散制结→制作电极

【单选题】内部业绩评价的等同概念是()。

A.
业绩评价
B.
业绩激励
C.
责任中心
D.
责任会计
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利用高频感应线圈和辅助线圈加热多晶硅棒
B.
每一炉需要消耗一支坩埚
C.
有种晶、引细颈、放肩过程
【单选题】从项目周期阶段各项工作运行和管理角度,可以把项目的内部管理分为( )两个层次。
A.
咨询管理和承包管理
B.
决策管理和执行管理
C.
前期管理和实施管理
D.
决策管理和施工管理
【单选题】非晶硅平板
A.
直接转换
B.
间接转换
C.
光电转换
D.
电光转换
E.
闪烁晶体
【单选题】单晶硅电池的制造工艺主要流程为()
A.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作电极→制作减反射膜
B.
表面处理→扩散制结→制作绒面→制作减反射膜→制作电极
C.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作减反射膜→制作电极
D.
表面处理→制作减反射膜→制作绒面→扩散制结→制作电极
【单选题】内部业绩评价的等同概念是()。
A.
业绩评价
B.
业绩激励
C.
责任中心
D.
责任会计