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举一反三
【单选题】溅射镀膜中，整个溅射过程建立在______的基础上，溅射时选择的工作区域是______。
A.
辉光放电；汤森放电区
B.
辉光放电；异常辉光放电区
C.
气体放电；正常辉光放电区
D.
气体放电；弧光放电区
相关题目：
【多选题】离子溅射泵的构成包含哪些组件？（）
A.
高电压电源
B.
磁铁
C.
Ti阴极板
D.
阳极管
【多选题】以下哪些是磁控溅射的特点
A.
溅射参数不易独立控制，工艺重复性差
B.
基片温升低，辐照损伤小
C.
工作气压较低，靶电流密度高
D.
基板的温升高，辐照损伤大
【判断题】离子溅射镀膜与离子镀过程原理是一样的。
A.
正确
B.
错误
【单选题】满壳层元素具有最小的溅射率。
A.
正确
B.
错误
【判断题】反应溅射是一种纯物理的过程。
A.
正确
B.
错误
【单选题】溅射镀膜中，整个溅射过程建立在______的基础上，溅射时选择的工作区域是______。
A.
辉光放电；汤森放电区
B.
辉光放电；异常辉光放电区
C.
气体放电；正常辉光放电区
D.
气体放电；弧光放电区
【多选题】溅射的方法非常多其中包括（）。
A.
直流溅射
B.
交流溅射
C.
反应溅射
D.
二级溅射
E.
三级溅射
【单选题】磁控溅射中（）被磁气回路的磁力线捕获
A.
电子
B.
原子
C.
粒子
D.
分子
【单选题】对于绝缘材料化合物的溅射制膜,只能采用( )溅射。
A.
偏压
B.
反应
C.
直流
D.
射频
【单选题】在溅射镀膜过程中，靶材通常是放在 区进行的。
A.
阿斯顿暗区
B.
克鲁克斯暗区
C.
阴极辉光区
D.
负辉光区