​多晶硅薄膜的直接制备法主要有液相外延（LPE）法 和化学气相沉积（CVD）法，其中化学气相沉积法又包括等离子增强化学气相沉积（PECVD）法 、低压化学气相沉积（LPCVD）、热丝化学气相沉积（HWCVD）等。