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"化学气相沉积"相关考试题目
1.
化学气相沉积装置的组成是怎样的？
2.
化学气相沉积和物理气相沉积的最重要区别:()
3.
以下哪个化学气相沉积合成方法要求双温区（ ）。
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关于化学气相沉积说法正确的是()
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气相沉积法分为（）和化学沉积法；化学沉积法按反应的能源可分为热能化学气相沉积、（） 。
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化学气相沉积（CVD）
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以下不属于热丝化学气相沉积技术缺点的是（ ）。
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什么叫化学气相沉积？
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简述化学气相沉积的应用。
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简要说明物理气相沉积和化学气相沉积的区别是什么？
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高压耗尽射频等离子体增强化学气相沉积（HPD+RF-PECVD）法的优点有（）。
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非晶硅薄膜的化学气相沉积工艺中，下列沉积速率最快的是（ ）
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化学气相沉积主要反应类型有
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化学气相沉积中的输送现象包括:
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化学气相浸渍法（CVI）是一种用于多孔预制体的化学气相沉积。
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,下列选项中不属于化学气相沉积过程的是( )。
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化学气相沉积与物理气象沉积技术的区别是什么，它们的主要应用场合?
18.
化学气相沉积的缺点有哪些?( )
19.
化学气相沉积是非均相反应，反应所需的活化能（）相同的均相反应。
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化学气相沉积
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气相沉积技术工艺方法有 A真空蒸镀 B溅射镀 C离子镀 D化学气相沉积
22.
CVD为化学气相沉积技术的简称。
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MCVD 法是一种管外制造光纤预制棒的化学气相沉积技术。
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PECVD 的中文名称是等离子体增强化学气相沉积技术。
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简述化学气相沉积原理及其应用。
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各种化学气相沉积包括（）
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化学气相沉积制粉过程的步骤主要包括( )、( )、( )和( )。
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化学气相沉 积 (CVD) 技 术 主要用于 车 削 类 刀具的表面涂 层 。
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不属于化学气相沉积（CVD）技术实现金属化优点的是（ ）。
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题目：原位化学气相沉积制备氮化钛和铝硅涂层及其性能研究
31.
化学气相沉积（气→固）可以分为哪几种？
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化学气相沉积制粉法是否有均匀形核的过程？
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化学气相沉积可制作金属，非金属及多成分合金薄膜。（ ）
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“等离子体增强化学气相沉积”,是一种化学气相沉积。
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化学气相沉积中，提高气体流速，可加快薄膜的沉积速率。
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PVD(物理气相沉积)的英文全拼是———————————————————————— CVD(化学气相沉积)的英文全屏是——————————————————————————
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化学气相沉积是非均相反应，反应所需的活化能（）相同的均相反应。
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化学气相浸渍法（CVI）是一种用于多孔预制体的化学气相沉积。
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化学气相沉积的沉积反应是在气液界面上发生
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利用热丝化学气相沉积（HW-CVD）法制备微晶硅薄膜时，通常选用的热丝为（ ）。
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化学气相沉积技术比物理气相沉积技术更符合绿色工业的要求。（ ）
42.
有哪些化学气相沉积的方法？
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化学气相沉积
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题3-2-9 以下不是化学气相沉积工艺所能完成的是。
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化学气相沉积（CVD）
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通常化学气相沉积(CVD)是在( )下进行。
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CVD为化学气相沉积技术的简称。
48.
以下不是化学气相沉积工艺所能完成的是 。
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下面几种工艺，属于化学气相沉积的是（ ）
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化 学气相沉积所用的反应体系要符合 哪 些基本要求 ?
