下载APP
【多选题】
⑯ 干法刻蚀
A.
为平行平板反应离子刻蚀
B.
被刻蚀材料与光刻胶刻蚀速率比尽量小些好
C.
存在缺陷和污染等物理损伤,要采取措施处理
D.
要用到刻蚀液
举报
题目标签:
干法刻蚀
刻蚀
参考答案:
参考解析:
刷刷题刷刷变学霸
举一反三
【判断题】硅的湿法刻蚀腐蚀液为热磷酸,干法刻蚀所用的气体为NF3。
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【简答题】刻蚀有哪些参数?
查看完整题目与答案
【简答题】干法刻蚀有高的还是低的选择比?
查看完整题目与答案
【判断题】干法刻蚀速率越快越好
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【单选题】SCHMID刻蚀机酸洗的作用是
A.
稀释碱
B.
去PSG(磷硅玻璃)丨稀释酸丨腐蚀硅片表面
查看完整题目与答案
【简答题】简述干法刻蚀的应用
查看完整题目与答案
【多选题】与干法刻蚀相比湿法刻蚀的优点包括______。
A.
能去除背面的N型硅
B.
硅片洁净度提高
C.
节约用水
D.
碎片率低
查看完整题目与答案
【简答题】什么是刻蚀?
查看完整题目与答案
【简答题】湿法刻蚀有什么缺点?
查看完整题目与答案
【简答题】什么是干法刻蚀?什么是湿法刻蚀?比较二者的优缺点。
查看完整题目与答案