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【判断题】

离子注入可以精确的控制杂质的分布,在表面杂质浓度最高,越远离表面浓度越低。

A.
正确
B.
错误
题目标签：离子注入杂质浓度表面杂质
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参考答案：
参考解析：
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举一反三

【简答题】[名词解释] 离子注入
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【单选题】当活性污泥或化学污泥等杂质浓度大于（）mg／L时，将出现成区沉降。
A.
200—500
B.
500—1000
C.
750—1000
D.
1000—2000
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【简答题】离子注入后退火的作用是什么？
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【单选题】相同施主杂质浓度( N D =1x10 16 cm -3 )的半导体硅和锗,室温时 _________ 。
A.
硅中的电子浓度远大于锗
B.
硅中的电子浓度远小于锗
C.
硅中的空穴浓度远大于锗
D.
硅中的空穴浓度远小于锗
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【判断题】离子注入法是PN结的制备方法。
A.
正确
B.
错误
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【简答题】简述离子注入退火目的与方法。
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【多选题】离子注入有下面哪种特点：
A.
掺入杂质的浓度可高于该杂质在硅中的固溶度
B.
掺杂可控性好于扩散
C.
工艺方法简单、成本低
D.
与扩散相比离子注入杂质分布横向效应小
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【判断题】离子注入可通过控制注入离子能量，注入时间等调节杂质的浓度和深度。
A.
正确
B.
错误
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【简答题】离子注入主要部件有哪些？
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【简答题】简述离子注入工艺中退火的主要作用？
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