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"离子注入"相关考试题目
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简述离子注入效应。
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下图为一个典型的离子注入系统。（1）给出1~6数字标识部分的名称，简述其作用。（2）阐述部件2的工作原理。
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离子注入机中，用于筛除同位素，保障高纯度离子注入的装置是
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[名词解释] 离子注入
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简述离子注入设备的五个主要子系统
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离子注入层的深度主要取决于离子注入的（）。
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离子注入硅片后，注入区的电阻率基本不变。
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题目：Nb+C离子注入磁过滤真空电弧镀TiAlN薄膜研究
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离子注入的沟道效应
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离子注入的英文。
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离子注入后退火的作用是什么？
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下图为一个典型的离子注入系统。（1）给出1~6数字标识部分的名称，简述其作用。（2）阐述部件2的工作原理。
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例举离子注入设备的5个主要子系统。
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离子注入工艺和扩散工艺相比的优点
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离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度，因而在几乎所有应用中都优于扩散。
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扩散掺杂与离子注入掺杂所形成的杂质浓度分布各自的特点是什么？与扩散掺杂相比离子注入掺杂的优势与缺点各是什么？
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例举离子注入设备的5个主要子系统。
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离子注入法是PN结的制备方法。
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简述离子注入原理
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离子注入表面改性属于（）
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简述离子注入退火目的与方法。
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简述离子注入工艺中退火的主要作用？
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题目：重离子注入诱变选育高效石油污染土壤修复菌剂的研究
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离子注入的晶格损伤
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离子注入的缺点之一是注入设备的复杂性。
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离子注入的含义
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离子注入法形成的PN结属于缓变结
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离子注入后，晶格结构会产生损伤，因此需要进行__________工艺。
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离子注入有下面哪种特点：
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离子注入
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离子注入杂质浓度分布服从高斯分布函数， 是杂质浓度最大的位置。（写文字）
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一般来说离子注入处理需要考虑的因素包括:,,以及。:
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离子注入的主要缺点是什么？如何克服？
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离子注入
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什么是离子注入技术?
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离子注入可通过控制注入离子能量，注入时间等调节杂质的浓度和深度。
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题5、以下不是离子注入特点的是。
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半导体的离子注入法掺杂有哪些特点?
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光刻胶可以作为离子注入掩膜。
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离子注入后的RTA流程
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离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度，因而在几乎所有应用中都优于扩散。
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下面有关离子注入说法正确的是()。
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简述离子注入工艺中退火的主要作用？
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离子注入主要部件有哪些？
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离子注入与扩散工艺相比，具有很好的均匀性，注入杂质纯度比较高。
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离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度，因而在几乎所有应用中都优于扩散。
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题3-2-7 以下不是离子注入特点的是 。
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离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度，因而在几乎所有应用中都优于扩散。
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离子注入法具有的特点主要有()。
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简述离子注入工艺中退火的主要作用？
