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【简答题】
以P
2
O
5
为例,多晶硅中杂质扩散的方式及分布情况。
题目标签:
杂质扩散
多晶硅
质扩散
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半导体制造技术题库
参考答案:
参考解析:
刷刷题刷刷变学霸
举一反三
【单选题】在多晶硅电池片的制备过程中,最重要的步骤是___
A.
清洗制绒
B.
pn结制备
C.
减反膜制备
D.
电极制备
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【单选题】直熔法生长的铸造多晶硅的主要特点是()
A.
利用高频感应线圈和辅助线圈加热多晶硅棒
B.
每一炉需要消耗一支坩埚
C.
有种晶、引细颈、放肩过程
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【简答题】沉积多晶硅栅材料采用什么CVD工具,列举多晶硅作为栅电极的6个原因。
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【单选题】其中不属于多晶硅的生产方法的是().
A.
SiCl4法
B.
硅烷法
C.
直拉法
D.
西门子改良法
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【单选题】工业上最常用的多晶硅制备方法是()。A. 三氯氢硅的氢还原法B. 直拉法C. 区熔法D. 沉积法
A.
沉积法
B.
直拉法
C.
区熔法
D.
三氯氢硅的氢还原法
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【判断题】在高纯多晶硅中掺入微量的第ⅤA族元素,就形成N型半导体。
A.
正确
B.
错误
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