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【单选题】
下列关于真空蒸发法和溅射法镀膜对比叙述正确的是()
A.
溅射法沉积原子的能量通常更高
B.
真空蒸发法所镀薄膜在基材上的附着力更好
C.
溅射的靶材不能是极难熔的材料
D.
制备合金薄膜时,利用蒸发法其成分的控制性能更好
参考答案：
参考解析：
刷刷题刷刷变学霸
举一反三
【单选题】下列关于真空蒸发法和溅射法镀膜对比叙述正确的是()
A.
溅射法沉积原子的能量通常更高
B.
真空蒸发法所镀薄膜在基材上的附着力更好
C.
溅射的靶材不能是极难熔的材料
D.
制备合金薄膜时,利用蒸发法其成分的控制性能更好
【单选题】关于溅射产额描述正确的是( )
A.
当离子入射方向与溅射靶材表面法线之间夹角为90°是，溅射产额最大。
B.
溅射产额随着靶材温度的升高而增加
C.
溅射产额随着入射离子能量的升高而增加
D.
重离子的溅射产额高于轻离子。
相关题目：
【多选题】离子溅射泵的构成包含哪些组件？（）
A.
高电压电源
B.
磁铁
C.
Ti阴极板
D.
阳极管
【多选题】以下哪些是磁控溅射的特点
A.
溅射参数不易独立控制，工艺重复性差
B.
基片温升低，辐照损伤小
C.
工作气压较低，靶电流密度高
D.
基板的温升高，辐照损伤大
【多选题】真空蒸发的原理，目的（）。
A.
增加溶液沸点
B.
增加温差度
C.
提高蒸发效率
D.
增加蒸发气耗
【判断题】离子溅射镀膜与离子镀过程原理是一样的。
A.
正确
B.
错误
【多选题】根据对蒸发法的了解,以下哪些蒸发源更适合用于高熔点材料蒸发?
A.
电阻式蒸发源
B.
电子束蒸发源
C.
高频感应蒸发源
D.
激光蒸发源
【单选题】关于真空蒸发表述正确的是（ ）
A.
基本过程为溅射、输运和沉积。
B.
输运过程中的主要作用因素为饱和蒸气压
C.
需要较高的真空度
D.
薄膜与基片的附着力大
【多选题】溅射的方法非常多其中包括（）。
A.
直流溅射
B.
交流溅射
C.
反应溅射
D.
二级溅射
E.
三级溅射
【单选题】下列关于真空蒸发法和溅射法镀膜对比叙述正确的是()
A.
溅射法沉积原子的能量通常更高
B.
真空蒸发法所镀薄膜在基材上的附着力更好
C.
溅射的靶材不能是极难熔的材料
D.
制备合金薄膜时,利用蒸发法其成分的控制性能更好
【单选题】关于溅射产额描述正确的是( )
A.
当离子入射方向与溅射靶材表面法线之间夹角为90°是，溅射产额最大。
B.
溅射产额随着靶材温度的升高而增加
C.
溅射产额随着入射离子能量的升高而增加
D.
重离子的溅射产额高于轻离子。
【单选题】磁控溅射中（）被磁气回路的磁力线捕获
A.
电子
B.
原子
C.
粒子
D.
分子
【单选题】对于绝缘材料化合物的溅射制膜,只能采用( )溅射。
A.
偏压
B.
反应
C.
直流
D.
射频
【判断题】常用制备脂质体的方法包括薄膜法、逆向蒸发法、界面缩聚法。( )
A.
正确
B.
错误
【单选题】真空蒸发操作时，溶液的沸点( )。
A.
随所处压强的增加而升高
B.
随所处压强的增加而降低
C.
随所处压强的减小而降低
D.
随所处压强的减小而升高