下载APP
【判断题】
化学机械抛光技术中的抛光垫越粗糙,抛光速率越高,抛光图形的选择性越低,平坦化抛光的效果也越好,但过于粗糙,易产生划痕。
A.
正确
B.
错误
题目标签:
机械抛光
抛光垫
化学机械抛光
举报
如何制作自己的在线小题库
参考答案:
参考解析:
刷刷题刷刷变学霸
举一反三
【单选题】采用机械抛光时砂纸和油石的选取一般按照( )的顺序进行选取进行抛光。
A.
先大目数再小目数
B.
先小目数再大目数
C.
先大目数再小目数,最后再用大目数
D.
无顺序要求
查看完整题目与答案
【判断题】机械抛光时,抛光膏涂在工件上。
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【简答题】机械抛光有哪些类型?
查看完整题目与答案
【简答题】什么是化学机械抛光?
查看完整题目与答案
【多选题】化学机械抛光CMP工艺中影响抛光质量的三大关键要素是()。
A.
抛光机
B.
抛光液
C.
抛光垫
D.
后清洗设备
查看完整题目与答案
【简答题】什么是化学机械抛光?
查看完整题目与答案
【单选题】化学机械抛光的英文简称是( )
A.
PCM
B.
PCN
C.
CMP
D.
CNP
查看完整题目与答案
【简答题】化学机械抛光(CMP)是将游离磨料的()作用和氧化剂的()作用有机结合,实现超精磨无损伤表面加工,因而也是一种复合加工方法。
查看完整题目与答案
【简答题】机械抛光有哪些基本程序?
查看完整题目与答案
【单选题】机械抛光时选择的抛光微粉不包括
A.
氧化铬
B.
氧化镁
C.
氧化铝
D.
氧化钛
查看完整题目与答案