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【多选题】

化学机械抛光CMP工艺中影响抛光质量的三大关键要素是()。

A.
抛光机
B.
抛光液
C.
抛光垫
D.
洗设备
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参考答案:
参考解析:
.
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举一反三

【单选题】金合金全冠抛光所用抛光剂是

A.
氧化铁
B.
氧化铬
C.
硼砂
D.
浮石
E.
石膏

【多选题】下列有关抛光上蜡说法正确的是()

A.
能延长涂膜的使用寿命
B.
抛光上蜡仅适用于硬度较高的涂膜
C.
一般使用于装饰性涂膜
D.
抛光上蜡仅适用于硬度较低的涂膜