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【简答题】
光刻工艺中的甩胶,其原理是利用底模转动时产生的(),将滴于模上的胶液甩开,在光刻胶()和()的共同作用下,最终形成光刻胶膜。
题目标签:
光刻胶
光刻工艺
甩胶
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参考答案:
参考解析:
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举一反三
【判断题】导电胶甩胶产品划片工艺要求:Z1刀片高度=划片胶膜厚度+0.025mm。
A.
正确
B.
错误
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【简答题】简述光刻工艺的8道工序
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【多选题】光刻工艺的三要素是
A.
显影液
B.
光刻胶
C.
曝光机
D.
掩膜版
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【多选题】以下属于光刻工艺的为:()
A.
光刻胶涂覆
B.
曝光
C.
显影
D.
腐蚀
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【简答题】光刻胶
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【简答题】后段甩胶碗下的真空管脏应如何清洗?
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【简答题】最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶?
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【简答题】简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性?
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【简答题】什么是正光刻胶,负光刻胶?
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【单选题】光刻工艺中曝光后的工艺为 。
A.
腐蚀
B.
显影
C.
前烘
D.
坚膜
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