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【单选题】

光刻工艺中曝光后的工艺为 。

A.
腐蚀
B.
显影
C.
前烘
D.
坚膜
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参考答案:
参考解析:
.
刷刷题刷刷变学霸
举一反三

【单选题】电极制备的工艺目的是

A.
制作绒面
B.
制作PN结
C.
太阳电池的前表面和背表面制作导电性能优良的金属电极
D.
去除边缘PN结

【单选题】当景物的亮度差与感光材料的宽容度相同时,曝光的宽容度()。

A.
很大,可以增加一级或二级的曝光,或者减少一级或二级的曝光
B.
只有一个曝光量是合适的
C.
很小
D.
以上均对

【单选题】识读工艺安装图时,应先看()。

A.
工艺流程图
B.
平面布置图
C.
总体平面图
D.
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