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"光刻工艺"相关考试题目
1.
半导体光刻工艺的正确流程是()。
2.
按顺序写出光刻工艺的步骤。
3.
光刻工艺包括哪些工艺？
4.
典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的作用。
5.
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？
6.
简述光刻工艺的8道工序
7.
光刻工艺分为哪些步骤？
8.
光刻工艺的三要素是
9.
以下属于光刻工艺的为：（）
10.
在光刻工艺中，前烘的主要目的是（）。
11.
光刻工艺流程中后烘的作用是（）。
12.
简述光刻工艺的8个基本步骤。
13.
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
14.
光刻工艺中常用的光源有（ ）
15.
光刻工艺中，常用的涂底胶的方法有（ ）。
16.
简述光刻工艺3个主要过程
17.
光刻工艺中常用的光源是
18.
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
19.
光刻工艺的三要素是
20.
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？
21.
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？
22.
光刻工艺的设备核心是（ ）。
23.
简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性?
24.
光刻工艺所需要的三要素为：
25.
简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？
26.
光刻工艺中常用的光源是黄光。
27.
简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性?
28.
光刻工艺的主要步骤:晶圆涂光刻胶、( )、( )、( )。
29.
简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？
30.
试写出光刻工艺的基本步骤
31.
光刻工艺的特点包括：（ ）
32.
光刻工艺中光刻胶涂布的均匀性只与工作环境的温度有关。
33.
光刻工艺的原理及目的 ?
34.
光刻工艺所需要的三要素为:
35.
光刻工艺分为哪些步骤？
36.
在光刻工艺中，一般包括（ ）等规格的硅片
37.
简述光刻工艺流程。
38.
光刻工艺曝光的光源有（）。
39.
从下面选出正确的光刻工艺流程
40.
典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的作用。
41.
光刻工艺中“涂胶”的是（
42.
光刻工艺中曝光后的工艺为 。
43.
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
44.
光刻工艺对准误差包括：（ ）。
45.
光刻工艺包括哪些工艺？
46.
光刻工艺的基本要素主要包括（ ）。
47.
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
48.
展出全球第一个商业化的立体光刻工艺是( )
