下载APP
【简答题】
CMOS制造工艺中用于制作场氧化层的技术为__________。
题目标签：
制造工艺
场氧化层
氧化层
举报
如何制作自己的在线小题库
参考答案：
参考解析：
刷刷题刷刷变学霸
举一反三
【简答题】【名词解释】机械制造工艺学
查看完整题目与答案
【判断题】轴应具有良好的制造工艺性等。
A.
正确
B.
错误
查看完整题目与答案
【简答题】测出的就是点接触外表面的导电类型。要求（），无氧化层，清洁无油污。
查看完整题目与答案
【简答题】按二极管制造工艺的不同,二极管可分为 ( ) 型 、 ( ) 型 和 ( ) 型 三种。
查看完整题目与答案
【单选题】FeO层大约占整个氧化层厚度的（）
A.
2%
B.
18%
C.
50%
查看完整题目与答案
【填空题】属于整车制造工艺的是涂装工艺、（）、焊装工艺。
查看完整题目与答案
【简答题】二极管接制造工艺的不同，可分为型型和型。
查看完整题目与答案
【多选题】电子产品制造工艺又称为什么？
A.
整机制造工艺
B.
元器件制造工艺
C.
电子组装工艺
D.
印制电路板制造工艺
查看完整题目与答案
【简答题】[名词解释] 表面氧化层厚度
查看完整题目与答案
【单选题】对失去氧化层的镁铝合金件必须在()h内进行氧化处理。
A.
10
B.
12
C.
24
D.
48
查看完整题目与答案
