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【简答题】
杂质半导体中的多数载流子和少数载流子是怎样产生的?为什么杂质半分体中少数载流子的浓度比本征载流子的浓度小? 电工学第七版下册课后练习与思考题答案 14.1.2杂质半导体中的多数载流子和少数载流子是怎样产生的?为什么杂质半分体中少数载流子的浓度比本征载流子的浓度小?
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参考答案：
参考解析：
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举一反三
【单选题】掺有硼原子和原子的Ge样品，室温时，Ge的本征载流子浓度,电子迁移率，空穴迁移率，试计算室温时样品的电阻率。
A.
8.2Ω·cm
B.
47.9Ω·cm
C.
17.4Ω·cm
D.
70.6Ω·cm
【单选题】已知室温下硅的本征载流子密度ni=1.5´1010 cm-3，试求掺磷浓度为1.5´1013 cm-3，掺硼浓度为1.0´1013 cm-3的硅样品在室温热平衡状态下的电子密度n0、空穴密度p0和费米能级的位置（Ec-EF）。已知此时硅中杂质原子已全部电离，硅的导带底和价带顶有效态密度分别为2.8´1019cm-3和1.1´1019cm-3。( )
A.
n0=5´1012cm-3, p0=4.5´107cm-3, Ec-EF=0.404eV
B.
n0=4.5´107cm-3, p0=5´1012cm-3, Ec-EF=0.362eV
C.
n0=5´1012cm-3, p0=4.5´107cm-3, Ec-EF=0.362eV
D.
n0=4.5´107cm-3, p0=5´1012cm-3, Ec-EF=0.404eV