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【单选题】
、 我公司三期生产多晶硅工艺与一二期的工艺路线相比，增加了（ ）装置，真正实现了四氯化硅的循环利用。
A.
渣浆
B.
残液
C.
冷氢化
D.
还原
参考答案：
参考解析：
刷刷题刷刷变学霸
举一反三
相关题目：
【单选题】在多晶硅电池片的制备过程中,最重要的步骤是___
A.
清洗制绒
B.
pn结制备
C.
减反膜制备
D.
电极制备
【多选题】多晶硅材料按照纯度可以分为
A.
冶金硅
B.
太阳能级
C.
电子级
D.
砂子级
【单选题】直熔法生长的铸造多晶硅的主要特点是（）
A.
利用高频感应线圈和辅助线圈加热多晶硅棒
B.
每一炉需要消耗一支坩埚
C.
有种晶、引细颈、放肩过程
【判断题】多晶硅薄膜的电阻率比非晶硅和微晶硅薄膜的都要小。
A.
正确
B.
错误
【单选题】其中不属于多晶硅的生产方法的是（）.
A.
SiCl4法
B.
硅烷法
C.
直拉法
D.
西门子改良法
【判断题】单晶硅和多晶硅的颜色是相同的
A.
正确
B.
错误
【单选题】目前比较成熟且广泛应用的是晶硅类电池。多晶硅比单晶硅转换效率（），但价格更（）。
A.
低；便宜
B.
低；贵
C.
高；便宜
D.
高；贵
【多选题】下列属于多晶硅制备的方法有（）
A.
硅烷法
B.
流化床法
C.
改良西门子法
D.
浮游带熔融法
【判断题】多晶硅和单晶硅都可作为制作集成电路的材料。
A.
正确
B.
错误
【单选题】工业上最常用的多晶硅制备方法是（）。A. 三氯氢硅的氢还原法B. 直拉法C. 区熔法D. 沉积法
A.
沉积法
B.
直拉法
C.
区熔法
D.
三氯氢硅的氢还原法
【判断题】在高纯多晶硅中掺入微量的第ⅤA族元素，就形成N型半导体。
A.
正确
B.
错误
【单选题】、 改良西门子法多晶硅制取不包括的主要工艺（ ）
A.
精馏
B.
提纯
C.
还原
D.
CDI