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【多选题】
化学提纯高纯多晶硅的制备是指通过化学反应,将硅转化为容易提纯的中间化合物,再利用精馏提纯等技术提纯中间化合物,再将中间化合物还原成高纯硅,工业中应用的技术主要有()。
A.
三氯氢硅氢还原法
B.
硅烷热分解法
C.
四氯化硅氢还原法
D.
碳热还原法
题目标签:
多晶硅
化学提纯
化学反应
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参考答案:
参考解析:
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举一反三
【单选题】直熔法生长的铸造多晶硅的主要特点是()
A.
利用高频感应线圈和辅助线圈加热多晶硅棒
B.
每一炉需要消耗一支坩埚
C.
有种晶、引细颈、放肩过程
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【判断题】多晶硅薄膜的电阻率比非晶硅和微晶硅薄膜的都要小。
A.
正确
B.
错误
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【单选题】大气中HCl的光化学反应过程如下,属于次级过程的_______。 1、HCl + hν→ H· + Cl· 2、H· + HCl → H 2 + Cl· 3、Cl·+ Cl·+ M → Cl 2
A.
1,2,3
B.
1,2
C.
1,3
D.
2,3
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【简答题】沉积多晶硅栅材料采用什么CVD工具,列举多晶硅作为栅电极的6个原因。
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【单选题】燃烧是物质起剧烈变化的一种化学反应的( )。
A.
途径
B.
流程
C.
现象
D.
过程
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【简答题】关于多晶硅内部的排列,下面说法正确的是()。
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【单选题】工业上最常用的多晶硅制备方法是()。A. 三氯氢硅的氢还原法B. 直拉法C. 区熔法D. 沉积法
A.
沉积法
B.
直拉法
C.
区熔法
D.
三氯氢硅的氢还原法
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【单选题】、 改良西门子法多晶硅制取不包括的主要工艺( )
A.
精馏
B.
提纯
C.
还原
D.
CDI
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【多选题】铝热化学反应不是()反应。
A.
氧化
B.
还原
C.
脱氧
D.
氧化还原
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【简答题】版图中MOS管的沟道长由多晶硅栅的宽度确定
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