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【简答题】
最初只知道一个特殊的硅器件掺杂是用离子注入方法制备的，后经过测量得知： 表面杂质浓度为4×1013cm-3，峰值在1800Å深处，峰值浓度为5×1017cm-3。假定离子注入服从对称高斯分布，你能估计出它的注入剂量是多少吗？
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参考答案：
参考解析：
刷刷题刷刷变学霸
举一反三
【多选题】离子注入有下面哪种特点：
A.
掺入杂质的浓度可高于该杂质在硅中的固溶度
B.
掺杂可控性好于扩散
C.
工艺方法简单、成本低
D.
与扩散相比离子注入杂质分布横向效应小