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【简答题】
[名词解释] 光刻三要素
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光刻
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集成电路工艺原理题库
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举一反三
【单选题】常规光学光刻所用的光源为:
A.
黄光
B.
紫外光
C.
准分子激光
D.
高压汞灯
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【单选题】三维立体光刻中的光刻胶属于 光刻胶。
A.
正性
B.
负性
C.
电子束
D.
中性
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【多选题】下列哪些是立体光刻（SLA）3D打印的特点？
A.
打印精度高
B.
打印区域大
C.
打印速度快
D.
需要材料多
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【简答题】光刻的曝光方式有几种？各有何特点？
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【简答题】简述光盘制作的光刻。
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【单选题】光刻加工主要用于（）。
A.
加工超硬材料
B.
加工工程陶瓷
C.
制作集成电路
D.
制作微型模具
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【简答题】光刻三要素: , , 。
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【简答题】什么是负性光刻？正性光刻？
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【简答题】简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。
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