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【单选题】

LPCVD-SiO2,将工艺控制在较高温度,有:ks>hg,此时淀积速率的特点为()

A.
反应剂气体浓度的变化对淀积速率的影响不大
B.
温度的较都会对淀积速率有较大影响
C.
淀积速率受气相质量输运控制
D.
淀积速率受表面化学反应控制
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题目标签:淀积温度高温
参考答案:
参考解析:
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刷刷题刷刷变学霸
举一反三

【单选题】下列情况中,不会造成离心泵电机温度超高的是()

A.
电机潮湿
B.
电机电源线短路
C.
电机轴承安装不正
D.
润滑油位过低