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【简答题】
半导体工业生产单质硅的过程有三个主要反应:①由二氧化硅生产粗硅 SiO2[s] + 2C[s] = Si[s] +2CO[g]②硅被氯氧化生成四氯化硅 Si[s] + 2CI2[s] = SiCI4[s]③四氯化硅被镁还原生成纯硅 SiCI4[s] + 2Mg[s] = 2MgCI2[s] + Si[s]计算上述各反应的ΔrHmθ分别是①____②____③____kJ.mol-1。生产1.00Kg纯硅的总反应热为____×10____kJ。[计算值保留小数点后2位]
题目标签:
半导体工业
二氧化硅
四氯化硅
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参考答案:
参考解析:
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举一反三
【简答题】二氧化硅
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【简答题】在半导体工业中有这样一句话:“从沙滩到用户”,其中由粗硅制纯硅的常用方法为:Si(粗)+2Cl 2 =SiCl 4 SiCl 4 +2H 2 =Si(纯)+4HCl。若在25℃101KPa条件下反应生成HCl气体49L(注:25℃101KPa条件下气体摩尔体积为24.5L/mol)则: (1)反应生成HCl气体的质量为__________,转移电子的个数为_____________。 (2)反应生...
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【单选题】在过去的10年中,由美国半导体工业生产的半导体增加了200%,但日本半导体工业生产的半导体增加了500%,因此,日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项为真,最能削弱以上命题
A.
在过去5年中,由美国半导体工业生产的半导体增长仅100%。
B.
过去10年中,美国生产的半导体的美元价值比日本生产的高。
C.
今天美国半导体出口在整个出口产品中所占的比例比10年前高。
D.
10年前,美国生产的半导体占世界半导体的90%,而日本仅2%。
E.
10年前,日本生产半导体是世界第四位,而美国列第一位。
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【单选题】在过去的10年中,由美国半导体工业生产的半导体增加了200%,但日本半导体工业生产的半导体增加了500%。因此,日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项如果为真,最能削弱以上命题
A.
在过去的5年中,由美国半导体工业生产的半导体增长仅100%。
B.
在过去的10年中,美国生产的半导体的价值比日本生产的高。
C.
今天美国半导体出口在整个出口产品中所占的比例比10年前高。
D.
10年前,美国生产的半导体占世界半导体的90%,而日本仅占2%。
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【简答题】第二次以后,电子工业和半导体工业对超纯材料的要求导致()及各种单晶制备方法和气相沉积法的出现。
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【单选题】家用电器工业比半导体工业扩散与转移的更快。()
A.
错误
B.
正确
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【单选题】、 四氯化硅
A.
silicon rod
B.
silicon carbide
C.
Silicon tetrachloride
D.
silicon tetrafluoride
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【单选题】[1997年MBA真题]在过去的十年中,由美国半导体工业生产的半导体增加了200%,但日本半导体工业生产的半导体增加了500%,因此,日本现在比美国制造的半导体多。以下哪项为真,最能削弱以上命题
A.
在过去五年中,由美国半导体工业生产的半导体增长仅100%。
B.
过去十年中,美国生产的半导体的美元价值比日本生产的高。
C.
今天美国半导体出口在整个出口产品中所占的比例比十年前高。
D.
十年前,美国生产的半导体占世界半导体的90%,而日本仅2%。
E.
十年前,日本生产半导体是世界第4位,而美国列第一位。
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【判断题】家用电器工业比半导体工业扩散与转移的更快。()
A.
正确
B.
错误
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【单选题】李昌和王平的期终考试课程共五门。他俩的成绩除了历史课相同外,其他的都不同。他俩的各门考试都及格了,即每门成绩都在60分与100分之间。 在过去的十年中,由美国半导体工业生产的半导体增加了200%,但日本半导体工业生产的半导体增加了500%,因此,日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项为真,最能削弱以上命题?
A.
在过去五年中,由美国半导体工业生产的半导体增长仅100%。
B.
在过去十年中,美国生产的半导体的美元价值比日本生产的高。
C.
今天美国半导体出口在整个出口产品中所占的比例比十年前高。
D.
十年前,美国生产的半导体占世界半导体的90%,而日本仅占2%。
E.
十年前,日本生产半导体是世界第四位,而美国列第一位。
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