下载APP
刷刷题APP > 半导体工业
"半导体工业"相关考试题目
1.
在过去的十年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200％，但日本半导体工业生产的半导体增加了500％，因此，日本现在比美国制造的半导体多。以下哪项为真，最能削弱以上命题
2.
在半导体工业中有这样一句话：“从沙滩到用户”，其中由粗硅制纯硅的常用方法为：Si（粗）+2Cl 2=SiCl 4 SiCl 4+2H 2=Si（纯）+4HCl。若在25℃101KPa条件下反应生成HCl气体49L（注：25℃101KPa条件下气体摩尔体积为24.5L/mol）则： （1）反应生成HCl气体的质量为__________，转移电子的个数为_____________。 （2）反应生成的H...
3.
在半导体工业中有这样一句话：“从沙滩到用户”，其中由粗硅制纯硅的常用方法为：Si（粗）+2Cl 2 =SiCl 4 SiCl 4 +2H 2 =Si（纯）+4HCl。若在25℃101KPa条件下反应生成HCl气体49L（注：25℃101KPa条件下气体摩尔体积为24.5L/mol）则： （1）反应生成HCl气体的质量为__________，转移电子的个数为_____________。 （2）反应生...
4.
在过去的10年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%，因此，日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项为真，最能削弱以上命题
5.
50年前，集成电路的诞生，促使半导体工业的崛起。摩尔定律塑造现代科技的方方面面。
6.
CVD法可用于制造覆膜、粉末、纤维等材料，它是半导体工业中应用最为广泛的沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料、大多数金属材料和合金材料。 （ ）
7.
( ) 陶瓷具有半导体特性和较好的热导性能,可用作高温半导体元器件,也可以用作半导体工业中的气体分布盘、高温热电偶元件等。
8.
50年前， 集成电路的诞生，促使半导体工业的崛起。摩尔定律塑造现代科技的方方面面。
9.
（）年，我国开始利用半导体工业废次硅材料生产单晶硅太阳电池
10.
在过去的10年中，美国半导体工业生产的半导体增加了200％，但日本半导体工业生产的数量增加了500％，因此，日本现在比美国制造的半导体多。以下哪项如果是真的最能削弱以上论证
11.
在过去的十年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%，因此，日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项为真，最能削弱以上命题
12.
( )岛已成为半导体工业基地,被称为日本的“硅岛”。
13.
电子级钴的氧化物用于半导体工业和电子陶瓷等领域，是一种纯度很高的氧化物。其工业制取流程如下： （1）实验室过滤所需的仪器有铁架台、铁圈、烧杯、 和漏斗。 （2）滤渣A的成分除过量的Co 3（PO 4） 3和Fe(OH) 3外还有 （填化学式），加入CO 3(PO 4) 2的目的是 。 （3）Co与稀硝酸反应生成 Co 2+的离子方程式为： 。 （4）滤渣B经过反复洗涤、干燥后，进行灼...
14.
在过去的10年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%，因此，日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项为真，最能削弱以上命题
15.
在过去的10年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%。因此，日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项如果为真，最能削弱以上命题
16.
第二次世界大战以后，电子工业和半导体工业对超纯材料的要求导致（）及各种单晶制备方法和气相沉积法的出现。
17.
半导体工业所用的硅单晶（）是用CZ法生长的。
18.
免疫研究室的钟教授说：“生命科学院从前的研究生那种勤奋精神越来越不多见了，因为我发现目前在我的研究生中，起早摸黑做实验的人越来越少了。” 在过去的10年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%，因此日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项如果为真，最能削弱以上命题
19.
在过去的十年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%，因此，日本现在比美国制造的半导体多（ ）【看原始数据】
20.
第二次世界大战以后，电子工业和半导体工业对超纯材料的要求导致（）及各种单晶制备方法和气相沉积法的出现。
21.
提供两种硅器件的腐蚀剂，写出有关的反应方程式。半导体工业生产单质硅过程中有三个重要反应，请写出生产纯硅有关反应方程式。 (1)二氧化硅用碳还原为粗硅。 (2)硅被氯气氧化生成四氯化硅。 (3)四氯化硅被镁还原生成纯硅。
22.
在过去的10年中，美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的数量增加了500%，因此，日本现在比美国制造的半导体多。以下哪项如果是真的最能削弱以上论证?
23.
在过去的10年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%。因此，日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项如果为真，最能削弱以上命题?
24.
在过去的10年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%，因此，日本现在比美国制造的半导体多。以下哪项为真，最能削弱以上命题?
25.
半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅 SiO 2(s)+2C(s)＝Si(s)+2CO(g) △H 1＝+682.44kJ·mol -1 (石英砂） (粗硅） Si(s)+2C1 2(g)＝SiCl 4(l) △H 2＝一657.01kJ·mol -1 (粗硅） SiCl 4(l)+2Mg(s)＝2MgCl 2(s)+Si(s) △H 3＝一625.63kJ·mol -1 （纯硅） ...
26.
在过去的十年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%。因此，日本现在比美国制造的半导体多。以下哪项为真，最能削弱以上命题?
27.
在过去的10年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%。因此，日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项如果为真，最能削弱以上命题
28.
在过去的十年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了20．0％，但日本半导体工业生产的半导体增加了500％。因此，日本现在比美国制造的半导体多。以下哪项为真，最能削弱以上命题
29.
（纯硅）若生产1.00kg纯硅放出的热量为半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅SiO2(s)+2C(s)＝Si(s)+2CO(g)△H1＝+682.44kJ·mol-1(石英砂） (粗硅）Si(s)+2C12(g)＝SiCl4(l)△H2＝一657.01kJ·mol-1(粗硅）SiCl4(l)+2Mg(s)＝2MgCl2(s)+Si(s) △H3＝一625.63kJ·mol-1（纯硅...
30.
生产1.00kg纯硅的总反应热为（ ）半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅：SiO2（s）（石英砂）+2C（s）═Si（s）（粗硅）+2CO（g），△H=682.44kJ/molSi（s）（粗硅）+2Cl2（s）═SiCl4（g），△H=-657.01kJ/molSiCl4（g）（纯硅）+2Mg（s）═2MgCl2（s）+Si（s），△H=-625.63kJ/mol生产1.00kg...
31.
在过去的10年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%，因此日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项如果为真，最能削弱以上命题
32.
半导体工业生产单质硅的过程有三个主要反应:①由二氧化硅生产粗硅 SiO2[s] + 2C[s] = Si[s] +2CO[g]②硅被氯氧化生成四氯化硅 Si[s] + 2CI2[s] = SiCI4[s]③四氯化硅被镁还原生成纯硅 SiCI4[s] + 2Mg[s] = 2MgCI2[s] + Si[s]计算上述各反应的ΔrHmθ分别是①____②____③____kJ.mol-1。生产1.00K...
33.
家用电器工业比半导体工业扩散与转移的更快。（）
34.
在过去的十年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%，因此，日本现在比美国制造的半导体多。( )
35.
半导体工业生产单质硅的过程有三个主要反应: 1由二氧化硅生产粗硅 SiO 2[s] + 2C [s] = Si [s] +2CO [g] 2硅被氯氧化生成四氯化硅 Si [s] + 2CI 2[s] = SiCI 4[s] 3四氯化硅被镁还原生成纯硅 SiCI 4[s] + 2Mg [s] = 2MgCI 2[s] + Si [s] 计算上述各反应的ΔrHmθ分别是1____2____3____k...
36.
在半导体工业中有这样一句话：“从沙滩到用户”，其中由粗硅制纯硅的常用方法为：Si（粗）+2Cl2=SiCl4 SiCl4+2H2=Si（纯）+4HCl。若在25℃101KPa条件下反应生成HCl气体49L（注：25℃101KPa条件下气体摩尔体积为24.5L/mol）则：（1）反应生成HCl气体的质量为__________，转移电子的个数为_____________。（2）反应生成的HCl气体溶于...
37.
[1997年MBA真题]在过去的十年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200％，但日本半导体工业生产的半导体增加了500％，因此，日本现在比美国制造的半导体多。以下哪项为真，最能削弱以上命题
38.
化学家Seidel指出Si与NaOH溶液的反应，首先是Si与OH -反应，生成SiO 4 4-，然后SiO 4 4-迅速水解生成H 4 SiO 4，下列有关说法正确的是（ ）。 A．原硅酸钠（Na4SiO4）能迅速水解，且水解后呈碱性，故Na4SiO4为弱电解质 B．石英玻璃、普通玻璃、陶瓷及水泥均属于硅酸盐产品 C．2HCl +Na2SiO3 = H2SiO3↓+2NaCl说明Cl...
39.
在过去的10年中，美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的数量增加了500%，因此，日本现在比美国制造的半导体多。以下哪项如果是真的最能削弱以上论证
40.
在过去的10年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%，因此，日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项为真，最能削弱以上命题
41.
，生产1.00kg纯硅的总反应热为（ ）半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅SiO2（s）+2C（s）═Si（s）+2CO（g），△H=682.44kJ/mol， （石英砂）（粗硅）Si（s）+2Cl2（s）═SiCl4（g），△H=-657.01kJ/mol，SiCl4（g）+2Mg（s）═2MgCl2（s）+Si（s），△H=-625.63kJ/mol （粗硅） （纯硅），生产...
42.
家用电器工业比半导体工业扩散与转移的更快。（）
43.
半导体工业所用的硅单晶（）是用CZ法生长的。
44.
半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅SiO2（s）+2C（s）═Si（s）+2CO（g），△H=682.44kJ/mol， （石英砂） （粗硅）Si（s）+2Cl2（s）═SiCl4（g），△H=-657.01kJ/mol，SiCl4（g）+2Mg（s）═2MgCl2（s）+Si（s），△H=-625.63kJ/mol （粗硅） （纯硅），生产1.00kg纯硅的总反应热为（ ） ...
45.
在过去的10年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%。因此，日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项如果为真，最能削弱以上命题
46.
半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅 ①SiO2(s)+2C(s)=Si(s) +2CO(g) △H= +682.44 kJ·mol-1 （石英砂） （粗硅） ②Si(s)+2Cl2(g)=SiCl4(g) △H=-657. 01 kJ·mol -1 ③SiCl4(g)+2Mg(s) =2MgCl2(s)+Si(s) （纯硅） △H= -625.63 kJ·mol-1 生产1. 00...
47.
在过去的十年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%。因此，日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项为真，最能削弱以上命题
48.
在过去的10年中，美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的数量增加了500%，因此，日本现在比美国制造的半导体多。以下哪项如果是真的最能削弱以上论证（）
49.
半导体工业所用的硅单晶（）是用CZ法生长的。
50.
李昌和王平的期终考试课程共五门。他俩的成绩除了历史课相同外，其他的都不同。他俩的各门考试都及格了，即每门成绩都在60分与100分之间。 在过去的十年中，由美国半导体工业生产的半导体增加了200%，但日本半导体工业生产的半导体增加了500%，因此，日本现在比美国制造的半导体多。 以下哪项为真，最能削弱以上命题？
