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【简答题】
光刻的三要素是( )、掩膜版和光刻机。
题目标签：
掩膜
光刻
光刻机
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参考答案：
参考解析：
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举一反三
【单选题】常规光学光刻所用的光源为:
A.
黄光
B.
紫外光
C.
准分子激光
D.
高压汞灯
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【简答题】解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？
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【填空题】80C51含（）掩膜ROM。
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【单选题】三维立体光刻中的光刻胶属于 光刻胶。
A.
正性
B.
负性
C.
电子束
D.
中性
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【单选题】浸没式光刻机中，第一代浸没液体为 （ ）
A.
有机物
B.
水
C.
饱和烷烃化合物
D.
多环饱和烷烃
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【单选题】光刻加工主要用于（）。
A.
加工超硬材料
B.
加工工程陶瓷
C.
制作集成电路
D.
制作微型模具
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【简答题】光刻三要素: , , 。
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【简答题】[名词解释] 光刻三要素
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【简答题】什么是负性光刻？正性光刻？
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【简答题】简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。
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