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【判断题】
N阱CMOS工艺中第六次光刻是为了制作接触孔。（ ）
A.
正确
B.
错误
题目标签：
光刻
次光
接触孔
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参考答案：
参考解析：
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举一反三
【简答题】PN结隔离的双极集成电路工艺需要几次光刻，每次光刻目的是什么？
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【单选题】常规光学光刻所用的光源为:
A.
黄光
B.
紫外光
C.
准分子激光
D.
高压汞灯
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【简答题】存某次光电实验中，测得入射光的波长λ和某金属截止电压U c 的数据如下表。 λ/nm 253.6 283.0 303.9 330.2 366.3 435.8 U c /V 2.60 2.11 1.81 1.47 1.10 0.57
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【多选题】通常情况下,高素质的服务人员,()使旅游者在感官上、精神上产生亲切感、尊重感和偷悦感,并因所受到的善待而成为忠诚的客人,再次光临
A.
仪态端庄
B.
彬彬有礼
C.
着装得体
D.
举止优雅
E.
热情周到
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【判断题】冲裁断面光亮带过宽或出现二次光亮带和毛刺的原因是由于冲裁模间隙过小所致。
A.
正确
B.
错误
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【单选题】三维立体光刻中的光刻胶属于 光刻胶。
A.
正性
B.
负性
C.
电子束
D.
中性
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【简答题】在键盘上，每按一次______，光标将会移到当前行默认的下一个制表位置。
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【简答题】光刻三要素: , , 。
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【简答题】[名词解释] 光刻三要素
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【简答题】简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。
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