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【多选题】

在碱性氯化铜蚀刻中,造成蚀刻过度的原因可能有()。

A.
传送速度太慢
B.
pH值过高
C.
蚀刻液比重偏低
D.
蚀刻液温度不足
题目标签:蚀刻氯化铜
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参考答案:
参考解析:
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举一反三

【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应,储存时要注意下列哪一项?()

A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离

【单选题】全蚀刻体系是指()

A.
能酸蚀釉质的制剂
B.
能酸蚀牙本质的制剂
C.
能酸蚀牙骨质的制剂
D.
既能酸蚀牙釉质又能酸蚀牙本质的制剂
E.
既能酸蚀牙釉质又能酸蚀牙骨质的制剂

【多选题】在碱性氯化铜蚀刻中,造成蚀刻过度的原因可能有()。

A.
传送速度太慢
B.
pH值过高
C.
蚀刻液比重偏低
D.
蚀刻液温度不足

【单选题】与DES线蚀刻段喷压压力异常无关的因素是( )

A.
电动控制阀异常
B.
泵头叶轮管道腐蚀破损
C.
摇摆喷管松脱漏液
D.
喷盘摇摆活动不顺畅

【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应,储存时要注意下列哪一项?()

A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离

【多选题】湿法蚀刻具有以下哪些缺点()。

A.
化学药品处理时人员会遭遇的安全问题
B.
反应溶液及去离子水需花费较高成本
C.
光刻胶会产生附着性问题
D.
蚀刻不均匀

【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应,储存时要注意下列哪一项?()

A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离

【多选题】酸蚀刻的作用包括( )

A.
增大牙齿表面积
B.
暴露出清洁新鲜的釉质,呈现出化学基团的极性
C.
机械清洁作用
D.
保护牙髓活力
E.
减少牙齿松动
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【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应,储存时要注意下列哪一项?()
A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离
【单选题】全蚀刻体系是指()
A.
能酸蚀釉质的制剂
B.
能酸蚀牙本质的制剂
C.
能酸蚀牙骨质的制剂
D.
既能酸蚀牙釉质又能酸蚀牙本质的制剂
E.
既能酸蚀牙釉质又能酸蚀牙骨质的制剂
【多选题】在碱性氯化铜蚀刻中,造成蚀刻过度的原因可能有()。
A.
传送速度太慢
B.
pH值过高
C.
蚀刻液比重偏低
D.
蚀刻液温度不足
【单选题】与DES线蚀刻段喷压压力异常无关的因素是( )
A.
电动控制阀异常
B.
泵头叶轮管道腐蚀破损
C.
摇摆喷管松脱漏液
D.
喷盘摇摆活动不顺畅
【单选题】蚀刻溶液中的氧化剂为()。
A.
氯化铜
B.
氯化钠
C.
氯化铵
D.
氯化氢
【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应,储存时要注意下列哪一项?()
A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离
【多选题】湿法蚀刻具有以下哪些缺点()。
A.
化学药品处理时人员会遭遇的安全问题
B.
反应溶液及去离子水需花费较高成本
C.
光刻胶会产生附着性问题
D.
蚀刻不均匀
【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应,储存时要注意下列哪一项?()
A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离
【多选题】酸蚀刻的作用包括( )
A.
增大牙齿表面积
B.
暴露出清洁新鲜的釉质,呈现出化学基团的极性
C.
机械清洁作用
D.
保护牙髓活力
E.
减少牙齿松动