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【多选题】
在碱性氯化铜蚀刻中,造成蚀刻过度的原因可能有()。
A.
传送速度太慢
B.
pH值过高
C.
蚀刻液比重偏低
D.
蚀刻液温度不足
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题目标签:
蚀刻
氯化铜
相关题库:
电化学工程题库
参考答案:
参考解析:
刷刷题刷刷变学霸
举一反三
【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应,储存时要注意下列哪一项?()
A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离
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【简答题】在用酸碱性氯化铜蚀刻若形成氯化亚铜沉淀,有何不利因素。
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【判断题】将浓氯化铜稀释,溶液由黄色变为绿色后变为蓝色
A.
正确
B.
错误
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【简答题】freeze etching(冰冻蚀刻技术)
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【多选题】在碱性氯化铜蚀刻中,造成蚀刻过度的原因可能有()。
A.
传送速度太慢
B.
pH值过高
C.
蚀刻液比重偏低
D.
蚀刻液温度不足
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【单选题】与DES线蚀刻段喷压压力异常无关的因素是( )
A.
电动控制阀异常
B.
泵头叶轮管道腐蚀破损
C.
摇摆喷管松脱漏液
D.
喷盘摇摆活动不顺畅
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【简答题】freeze-etch冷冻蚀刻
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【单选题】不适宜在碱性氯化铜蚀刻液中蚀刻的抗蚀层是()。
A.
金
B.
锡铅合金
C.
油墨
D.
镍
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【单选题】电子业常用的氧化剂主要用来清洁、蚀刻和进行氧化反应,储存时要注意下列哪一项?()
A.
视乎容量的多少才可考虑与还原剂一同摆放
B.
不管容量多少应与还原剂远远分隔
C.
氧化剂与还原剂的储存须保持半米距离
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【多选题】湿法蚀刻具有以下哪些缺点()。
A.
化学药品处理时人员会遭遇的安全问题
B.
反应溶液及去离子水需花费较高成本
C.
光刻胶会产生附着性问题
D.
蚀刻不均匀
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