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【简答题】
LPCVD淀积SiO2温度适中(700-800℃),对杂质再分布影响小,
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题目标签:
淀积
温度
再分布
参考答案:
参考解析:
刷刷题刷刷变学霸
举一反三
【简答题】sio2的残留,二三氧化物及腐殖质淋溶及淀积的过程指的是
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【简答题】热分解化学气相淀积二氧化硅是利用()化合物,经过热分解反应,在基片表面淀积二氧化硅。
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【单选题】下列情况中,不会造成离心泵电机温度超高的是()
A.
电机潮湿
B.
电机电源线短路
C.
电机轴承安装不正
D.
润滑油位过低
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【单选题】《铁路旅客运输服务质量规范》(非空)7.3.1中规定:非空调列车运行途中,车内温度冬季不低于( )。
A.
14℃
B.
15℃
C.
16℃
D.
17℃
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【单选题】要求随时取得规定温度以上热水的建筑,对循环系统的设置要求是()。
A.
无需设置回水管道
B.
保证支管中的热水循环
C.
保证干管和立管的热水循环
D.
以上说法均不正确
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【单选题】陈设插花作品的环境应注意室内温度的调节,过高易萎缩,过冷易()
A.
延长花期
B.
生长茁壮
C.
开花不断
D.
枯黄落叶
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【判断题】在生产中如有条件,适当地提高系统的温度,对树脂的交换、再生过程等都是有利的。()
A.
正确
B.
错误
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【简答题】何谓回火?试选择下列淬火钢件的回火温度。
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【简答题】土壤水的再分布是土壤水的 。(饱和流?不饱和流?)
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【多选题】土壤水再分布的推动力有( )。
A.
重力势梯度
B.
温度梯度
C.
水汽压梯度
D.
基质势梯度
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