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【简答题】
如果扩散过程中始终保持表面杂质浓度不变(无限源扩散),那么形成的杂质分布是()分布;如果扩散过程中保持杂质的总量不变(限定源扩散),则形成的杂质分布是()分布
题目标签:
杂质浓度
扩散过程
表面杂质
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参考答案:
参考解析:
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举一反三
【多选题】技术创新成果扩散过程包括()。
A.
提供技术创新成果过程
B.
技术创新成果提供者与潜在使用者交流过程
C.
反馈技术创新成果过程
D.
采用技术创新成果过程
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【判断题】通常加快化学热处理的扩散过程能缩短化学热处理的周期。
A.
正确
B.
错误
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【单选题】相同施主杂质浓度( N D =1x10 16 cm -3 )的半导体硅和锗,室温时 _________ 。
A.
硅中的电子浓度远大于锗
B.
硅中的电子浓度远小于锗
C.
硅中的空穴浓度远大于锗
D.
硅中的空穴浓度远小于锗
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【简答题】农业创新的扩散规律主要包括:①创新的扩散方式;②创新的扩散过程;③创新扩散周期性;④___________。
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【单选题】原子扩散过程的驱动力是( )。
A.
温度梯度
B.
化学势梯度
C.
浓度梯度
D.
表面自由能
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【单选题】当扩散电阻的表面杂质浓度增加时,压阻系数?
A.
增加
B.
减小
C.
不变
D.
不定
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【单选题】离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的()。
A.
能量
B.
剂量
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【简答题】创新扩散过程分为()、()和()三个阶段。
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【判断题】自由大气中的涡旋主要是通过湍流扩散过程而减弱的。
A.
正确
B.
错误
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【多选题】对于组分 A 通过停滞组分 B 的扩散过程,下列表达式正确的是( )
A.
B.
C.
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