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【单选题】

单晶硅晶胞常数为0.543nm,则(111)的面间距是多少?()

A.
0.786nm
B.
0.543nm
C.
0.941nm
D.
0.543nm
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参考答案:
参考解析:
.
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举一反三

【单选题】单晶硅电池的制造工艺主要流程为()

A.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作电极→制作减反射膜
B.
表面处理→扩散制结→制作绒面→制作减反射膜→制作电极
C.
表面处理→制作绒面→扩散制结→制作减反射膜→制作电极
D.
表面处理→制作减反射膜→制作绒面→扩散制结→制作电极