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【单选题】

1型光刻机指的是:

A.

掩膜版面积与芯片面积之比为1：1

B.

芯片面积与掩膜版面积之比为1：1

C.

掩膜版上图形尺寸与芯片上图形尺寸之比为1：1

D.

芯片上图形尺寸与掩膜版上图形尺寸之比为1：1

题目标签：光刻机

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参考答案：

参考解析：

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举一反三

【简答题】目前，最先进的光刻机是已经实现的

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【判断题】现在的纳米级CPU光刻机常规光源已经无法使用，要使用极紫外光

A.

正确

B.

错误

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【简答题】光学光刻机主要有接触式、、和分步重复光刻机等几种。

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【简答题】解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？

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【单选题】投影光刻机中，分辨率增加时焦深会怎样（）

A.

变大

B.

变小

C.

不变

D.

不确定

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【简答题】光学光刻机主要有（）等几种。非光学光刻机主要有（）。

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【简答题】光刻的三要素是( )、掩膜版和光刻机。

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【单选题】光刻机的性能可由哪些参数来判别( )?

A.

分辨率

B.

套准精度

C.

产率

D.

以上皆是

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【单选题】浸没式光刻机中，第一代浸没液体为（）

A.

有机物

B.

水

C.

饱和烷烃化合物

D.

多环饱和烷烃

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【简答题】光刻三要素是()、()、光刻机。

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