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【简答题】
电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g) 其△H（298K）== -94.0kJ·mol-1 △S(298K)== -75.8J·mol-1·K-1 设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应自发进行的温度条件。
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参考答案：
参考解析：
刷刷题刷刷变学霸
举一反三
【单选题】液态烃膨胀后的体积变化比较大，当温度每升高15℃时，体积增加（）。
A.
2.0%~7.4%
B.
2.5%~7.4%
C.
2.0%~8.4%
D.
2.5%~8.4%
【单选题】要求随时取得规定温度以上热水的建筑，对循环系统的设置要求是（）。
A.
无需设置回水管道
B.
保证支管中的热水循环
C.
保证干管和立管的热水循环
D.
以上说法均不正确
【单选题】冬天用一热泵向室内供热，使室内温度保持在20℃。已知房屋的散热损失是120000kJ/h，室外环境温度为-10℃，则带动该热泵所需的最小功率是______。
A.
8.24kW
B.
3.41kW
C.
3.14kW
D.
10.67kW