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【简答题】

电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是:SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g) 其△H(298K)== -94.0kJ·mol-1 △S(298K)== -75.8J·mol-1·K-1 设△H和△S不随温度变化而变化,试求此反应自发进行的温度条件。

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参考答案:
参考解析:
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举一反三

【单选题】下列情况中,不会造成离心泵电机温度超高的是()

A.
电机潮湿
B.
电机电源线短路
C.
电机轴承安装不正
D.
润滑油位过低

【单选题】静定结构有温度变化时 ( )

A.
无变形,无位移,无内力
B.
有变形,有位移.无内力
C.
有变形.有位移,有内力
D.
无变形.有位移,无内力

【单选题】N2的临界温度是124K,如果想要液化N2,就必须()。

A.
在恒温下增加压力
B.
在恒温下降低压力
C.
在恒压下升高温度
D.
在恒压下降低温度

【单选题】要求随时取得规定温度以上热水的建筑,对循环系统的设置要求是()。

A.
无需设置回水管道
B.
保证支管中的热水循环
C.
保证干管和立管的热水循环
D.
以上说法均不正确
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C.
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D.
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【单选题】下列情况中,不会造成离心泵电机温度超高的是()
A.
电机潮湿
B.
电机电源线短路
C.
电机轴承安装不正
D.
润滑油位过低
【单选题】静定结构有温度变化时 ( )
A.
无变形,无位移,无内力
B.
有变形,有位移.无内力
C.
有变形.有位移,有内力
D.
无变形.有位移,无内力
【单选题】N2的临界温度是124K,如果想要液化N2,就必须()。
A.
在恒温下增加压力
B.
在恒温下降低压力
C.
在恒压下升高温度
D.
在恒压下降低温度
【单选题】要求随时取得规定温度以上热水的建筑,对循环系统的设置要求是()。
A.
无需设置回水管道
B.
保证支管中的热水循环
C.
保证干管和立管的热水循环
D.
以上说法均不正确