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【判断题】

直流溅射和射频溅射都可以用来制备金属薄膜。

A.
正确
B.
错误
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参考答案:
参考解析:
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刷刷题刷刷变学霸
举一反三

【单选题】以下各项不属于最常用的金属薄膜制备(Metal Film preparation)方法有:

A.
PVD (物理气相淀积)
B.
Sputtering (溅射)
C.
Thermal Oxidation (热氧化)
D.
Evaporation (蒸发)

【单选题】()是由两种金属薄膜连接而成的一种特殊结构的热电偶。

A.
高温热电偶
B.
薄膜热电偶
C.
信号热电偶
D.
普通型热电偶