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【单选题】

属于物理气相淀积的工艺有( ) (1)蒸发 (2)溅射 (3)硅烷热分解淀积多晶硅 (4)硅烷氧化生成SiO 2

A.
⑴⑵
B.
⑴⑶
C.
⑴⑷
D.
⑴⑵⑷
参考答案:
参考解析:
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