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【单选题】
属于物理气相淀积的工艺有( ) (1)蒸发 (2)溅射 (3)硅烷热分解淀积多晶硅 (4)硅烷氧化生成SiO 2
A.
⑴⑵
B.
⑴⑶
C.
⑴⑷
D.
⑴⑵⑷
题目标签:
热分解淀积
物理气相淀积
气相淀积
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参考答案:
参考解析:
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【简答题】[名词解释] 化学气相淀积
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【简答题】化学气相淀积
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【单选题】属于化学气相淀积的是( ) ( 1 )蒸发 ( 2 )溅射 ( 3 )硅烷热分解淀积多晶硅 ( 4 )硅烷氧化生成 SiO 2
A.
⑴⑵
B.
⑴⑶
C.
⑵⑷
D.
⑶ ⑷
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【简答题】简述化学气相淀积的概念?
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【单选题】属于物理气相淀积的工艺有( ) (1)蒸发 (2)溅射 (3)硅烷热分解淀积多晶硅 (4)硅烷氧化生成SiO 2
A.
⑴⑵
B.
⑴⑶
C.
⑴⑷
D.
⑴⑵⑷
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【简答题】物理气相淀积(pvd)
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【简答题】[名词解释] 物理气相淀积(pvd)
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