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【单选题】
化学气相淀积是将气态反应剂以合理的流速引入反应室，在基片表面发生（），淀积成（）。
A.
物理反应 固体薄膜
B.
物理反应 液体薄膜
C.
化学反应 液体薄膜
D.
化学反应 固体薄膜
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参考答案：
参考解析：
刷刷题刷刷变学霸
举一反三
【单选题】制备薄膜的过程中,基片表面存在许多悬挂键,它们对外来原子或分子具有很强的吸引力,外来原子或分子到达基片表面首先发生的是 。
A.
化学吸附
B.
物理吸附
C.
同时发生物理吸附和化学吸附
D.
不发生吸附
【多选题】物理气相淀积（PVD）是利用某种物理过程实现物质转移，将原子或分子由源或靶，气相转移到基片表面形成（）的工艺方法。
A.
乳液
B.
固体薄膜
C.
固体颗粒
D.
悬液