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【简答题】
(6分)单晶硅是制作电子 集成电路的基础材料。科学家预计,到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体 管,其功能远比我们想象的要大的多,这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅,其化学方程式为: ①SiO 2 + 2C Si + 2CO ②Si + 2Cl 2 SiCl 4 ③SiCl 4 + 2H 2 Si + 4HCl。回答下列问题: (1)上述反应中,属于氧化还原反应的是 (填序号)。 (2)反应①和③属于 。 A.化合反应 B.分解反应 C.置换反应 D.复分解反应 (3)下列描述正确的是 。 A.氧化还原反应都是置换反应 B.判断一个反应是否为氧化还原反应的依据是是否有化合价的升降 C.化合反应全部都是氧化还原反应 D.复分解反应全部都是氧化还原反应
题目标签:
化学方程式
氧化还原反应
复分解反应
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参考答案:
参考解析:
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举一反三
【简答题】Fe、H2O、H2、O2、KMnO4五种物质,按要求写出反应的化学方程式.(1)两个化合反应:_________、___________(2)两个分解反应:_______、____________.
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【单选题】n1=n2=1的氧化还原反应能进行直接滴定的必备条件是
A.
△φ’≥0.27V
B.
△φ’ ≥0.35V
C.
lgK’ ≥5
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【单选题】下列叙述中正确的是( )已知氯气、溴蒸气分别跟氢气反应的热化学方程式如下:H2(g)+Cl2(g)=2HCl(g);△H=-Q1kJ/molH2(g)+Br2(g)=2HBr(g);△H=-Q2kJ/mol下列叙述中正确的是( )
A.
Q1<Q2
B.
生成物总能量均高于反应物总能量
C.
生成1molHCl气体时放出Q1热量
D.
1molHBr(g)具有的能量大于1molHBr(l)具有的能量
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【简答题】写出下列氧化还原反应的平衡方程式:(a)KMnO4滴定H2O2(aq); (b)KMnO4滴定C2O42-(aq);(c)K2Cr2O7滴定Fe2+(aq);(d)K2Cr2O7滴定 I-(aq);(e)KI3滴定HAsO2(aq);(f)KI3滴定H2SO3(aq);(g)KI滴定Cu2+(间接滴定)。
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【简答题】下列反应中属于氧化还原反应的离子方程式的是 A.CaCO3+2H+=Ca2++CO2↑+H2O B.2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl- C.HCO3-+H+=CO2+H2O D.Na2O+H2O=2Na++2OH-
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【简答题】元素R的最高价氧化物化学式为RO2.它跟氢生存的化合物中含氢为25%,则R的相对原子质量为______,该化合物可燃,写出它燃烧的化学方程式______.
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【简答题】把二氧化碳、一氧化碳、氮气的混合物依次通过:①炽热的炭层,②炽热的氧化铜,经充分反应后,最后得到的气体是______.此过程中发生反应的化学方程式为______,______.
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【单选题】判断给定化学反应是否为氧化还原反应的依据是[ ]
A.
看反应前后是否有氧原子的得失
B.
看反应前后是否有原子的重新组合
C.
看反应前后是否有电子的得失或偏移
D.
看反应前后是否有元素的化合价发生改变
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【简答题】(7分).化合物C是医用功能高分子材料,可由化合物A(C 4H 8O 3)制得,如下图所示,B和D互为同分异构体。 试写出下列反应的化学方程式 A→B B→C 试写出下列反应的反应类型 A→B B→C A→D
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【简答题】白磷在空气中燃烧的化学方程式______.
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