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【判断题】
在集成电路制造工艺步骤中,光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
A.
正确
B.
错误
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题目标签:
工艺步骤
制造工艺
集成电路
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参考答案:
参考解析:
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举一反三
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