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【简答题】

在IC制造过程中,曝光、刻蚀、显影和去胶的顺序是()。

题目标签:过程去胶曝光
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参考答案:
参考解析:
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举一反三

【单选题】当景物的亮度差与感光材料的宽容度相同时,曝光的宽容度()。

A.
很大,可以增加一级或二级的曝光,或者减少一级或二级的曝光
B.
只有一个曝光量是合适的
C.
很小
D.
以上均对

【单选题】目标达成的过程是( )。

A.
决定-行为
B.
信念-决定-结果
C.
决定-行为-结果
D.
信念-行为-结果