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【判断题】
造成反常短沟道效应的原因是由于氧化扩散增强工艺,使得源漏区向沟道处发生了额外的杂质扩散。
A.
正确
B.
错误
题目标签:
杂质扩散
质扩散
沟道效应
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参考答案:
参考解析:
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举一反三
【简答题】什么是沟道效应?
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【多选题】如图所示,一高压晶闸管的P型区杂质扩散分为两步,第一次低浓度深扩散,第二次较高浓度,于是P型区的杂质分布为较高浓度区(P区)和较低浓度区(P-区),这样做的目的是( )。
A.
加速开通速度
B.
低浓度深扩散降低J1结和J2结前沿的浓度梯度,提高阻断电压
C.
高浓度杂质扩散提高注入效率,减小通态压降
D.
加速关断
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【简答题】例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。
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【判断题】虽然直至今日我们仍普遍采用扩散区一词,但是硅片制造中已不再用杂质扩散来制作pn结,取而代之的是离子注入。
A.
正确
B.
错误
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【简答题】例举并解释硅中固态杂质扩散的三个步骤。
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【判断题】有杂质原子参加的扩散,叫做杂质扩散
A.
正确
B.
错误
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【判断题】有限源扩散,扩散时间越长,杂质扩散越深。
A.
正确
B.
错误
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【判断题】清洁 表面指 不存在任何污染的化学纯表面,即不存在吸附、催化反应或杂质扩散等物理、化学效应的表面。
A.
正确
B.
错误
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【多选题】下列哪些因素会使杂质扩散速率提高?
A.
横向扩散效应
B.
场助扩散效应
C.
衬底为重掺杂硅
D.
硅衬底缺陷密度高
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【简答题】[名词解释] 溶质扩散
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