光学光刻中的曝光工艺需用 完成，光刻胶必须在其光源的强峰波长具有比较大的 ，目前常用的曝光光源是 和 。曝光时要有合适的 ，它是 与 的乘积。曝光前有十分精密的 来保证对准精度。