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【简答题】

打蜡、封釉、镀膜的区别?

题目标签:镀膜
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参考答案:
参考解析:
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举一反三

【多选题】镀膜基板的输送方法都有()

A.
单腔类型
B.
interback类型
C.
inline类型
D.
multi-chamber类型

【多选题】镀膜所用的原料是

A.
硅烷
B.
氨气
C.
氨水
D.
二氧化硅

【单选题】镀膜的目的不包括( )

A.
减少反射
B.
增加导电性
C.
实现表面 H 钝化
D.
阻挡

【多选题】离子镀膜加工有( )两种

A.
离子刻蚀
B.
溅射沉积
C.
离子镀
D.
离子注入

【多选题】真空镀膜机包括:

A.
真空镀膜室
B.
测量系统
C.
抽气系统

【多选题】PECVD镀膜的目的是()。

A.
减少电池表面对太阳光的反射
B.
钝化的作用
C.
可以阻挡层其他离子渗入
D.
减少光的透射

【单选题】对膜材的()是离子镀膜的两个不可缺少的环节。

A.
溅射和离化
B.
蒸发和溅射
C.
蒸发和离化
D.
烘干和离化

【多选题】当镀膜发现膜色异常时应( )

A.
放在一边
B.
通知组长确认
C.
通知上道工序
D.
通知工艺确认

【单选题】以下哪个不是蒸发镀膜的特点?()

A.
设备复杂
B.
能够成膜金属材料
C.
高纯度镀膜
D.
基板损伤小
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A.
硅烷
B.
氨气
C.
氨水
D.
二氧化硅
【单选题】镀膜的目的不包括( )
A.
减少反射
B.
增加导电性
C.
实现表面 H 钝化
D.
阻挡
【多选题】离子镀膜加工有( )两种
A.
离子刻蚀
B.
溅射沉积
C.
离子镀
D.
离子注入
【多选题】真空镀膜机包括:
A.
真空镀膜室
B.
测量系统
C.
抽气系统
【多选题】PECVD镀膜的目的是()。
A.
减少电池表面对太阳光的反射
B.
钝化的作用
C.
可以阻挡层其他离子渗入
D.
减少光的透射
【单选题】对膜材的()是离子镀膜的两个不可缺少的环节。
A.
溅射和离化
B.
蒸发和溅射
C.
蒸发和离化
D.
烘干和离化
【多选题】当镀膜发现膜色异常时应( )
A.
放在一边
B.
通知组长确认
C.
通知上道工序
D.
通知工艺确认
【单选题】以下哪个不是蒸发镀膜的特点?()
A.
设备复杂
B.
能够成膜金属材料
C.
高纯度镀膜
D.
基板损伤小