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【多选题】
P在两歩扩散工艺中，第二步再分布的同时又进行了热氧化（kp=10），这会给再分布扩散带来哪些影响：
A.
P扩散速度不变；
B.
P扩散速度加快；
C.
扩散速度减慢；
D.
扩入Si的P总量下降；
E.
在SiO2/Si 界面 Si一侧的P堆积（是指高于 SiO2一侧） ；
F.
在SiO2/Si 界面 S i 一侧的P耗竭 （是指低于 SiO2一侧） 。
参考答案：
参考解析：
刷刷题刷刷变学霸
举一反三
【单选题】201Tl心肌显像的再分布现象是因为（）
A.
局部心肌对201Tl的摄取慢而清除快
B.
局部心肌对201Tl的摄取快而清除慢
C.
局部心肌对201Tl的摄取而不清除
D.
局部心肌对201Tl的摄取和清除与血流量呈正相关
E.
局部心肌对201Tl的不摄取
【单选题】根据《精细化工企业工程设计防火标准》（GB 51283-2020 ），采用热氧化炉等废气处理设施处理含挥发性有机物的废气时，应设置燃烧室（ ），宜设置进气浓度监控与高浓度联锁系统、废气管路阻火器和泄爆装置。
A.
高温联锁保护系统和超压泄爆装置
B.
超压泄爆装置
C.
高温联锁保护系统
D.
以上都不对
【单选题】下列心肌灌注显像剂中，哪项存在再分布显像？（ ）
A.
99mTc－TBI
B.
201TlCl
C.
99mTc－CPI
D.
99mTc－sestamibi
E.
99mTc－tetrofosmin