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【单选题】
吡啶和噻吩分别是( )芳杂环化合物。
A.
富π电子,富π电子
B.
富π电子,缺π电子
C.
缺π电子,富π电子
D.
缺π电子,缺π电子
参考答案：
参考解析：
刷刷题刷刷变学霸
举一反三
【单选题】A．利妥珠单抗B．氟他胺C．来曲唑D．他莫昔芬E．甲地孕酮A．利妥珠单抗B．氟他胺C．来曲唑D．他莫昔芬E．甲地孕酮A．利妥珠单抗B．氟他胺C．来曲唑D．他莫昔芬E．甲地孕酮A．甲氨蝶呤B．氟尿嘧啶C．琉嘌呤D．羟基脲E．阿糖胞苷A．甲氨蝶呤B．氟尿嘧啶C．琉嘌呤D．羟基脲E．阿糖胞苷A．哌嗪B．阿苯达唑C．三苯双脒D．青蒿素E．吡喹酮A．甲氨蝶呤B．氟尿嘧啶C．琉嘌呤D．羟基脲E．阿糖胞苷A．哌...
A.
A．
B.
B．
C.
C．
D.
D．
E.
E．
【单选题】下列有关铁及其化合物的有关说法中正确的是（ ）
A.
赤铁矿的主要成分是Fe3O4
B.
铁与水蒸气在高温下的反应产物为Fe2O3和H2
C.
除去FeCl2溶液中的FeCl3杂质可以向溶液中加入铁粉，然后过滤
D.
Fe3+与KSCN产生血红色沉淀
【单选题】头孢噻吩钠与下列叙述中的哪项不符？（）
A.
为第一个对头孢菌素C结构改造取得成功的半合成头孢菌素类药物
B.
干燥固态下比较稳定，水溶液也比较稳定
C.
侧链为2-噻吩乙酰氨基
D.
体内代谢为3-去乙酰基进而转化成内酯化合物
E.
对耐青霉素的细菌有效
【单选题】在工业上生成苯的过程中，常有少量的噻吩存在，你认为下述方法中，哪一种是最合适的除去噻吩的方法？
A.
硅胶柱层析法
B.
蒸馏法
C.
利用重金属水溶液洗涤法
D.
利用浓硫酸洗涤法