真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括( )。A、预热温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间
B、预热温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间
C、现时温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间
D、现时温度，最终温度，预热时间，升温时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间
E、现时温度，最终温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间
在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉，上釉有两种方法：自行上釉和分别上釉，其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟，高于体瓷烧熔温度的范围是( )。A、31～40℃
B、21～30℃
C、10℃以内
D、11～20℃
E、5℃
在烤瓷过程中不能使烤瓷件与炉膛内壁接触，如果接触，可能造成的最严重的后果是( )。A、烤瓷失败
B、烤瓷失败，烤瓷件报废
C、烤瓷件与炉膛内壁发生粘连
D、炉膛报废
E、发热体损坏