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【简答题】
简述硅片表面污染的来源。
题目标签:
表面污染
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半导体材料题库
参考答案:
参考解析:
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举一反三
【多选题】α表面污染的监测在间接法中应用最多的有()。
A.
直接法
B.
间接法
C.
擦拭法
D.
表面置样检查法
E.
双滤膜法
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【单选题】图中是那种表面污染
A.
指纹残留
B.
药液残留
C.
油污的污渍
D.
反应物残留
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【多选题】属于表面污染的防护措施有()。
A.
采用易去污的设计和材料
B.
防止设备器具污染
C.
建立表面污染隔离区
D.
采取去污措施
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【简答题】简述α、β表面污染测量时的操作规程。
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【判断题】石材安装完毕后,应及时清理表面污染,避免腐蚀损坏。
A.
正确
B.
错误
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【单选题】剂量率高的区域,表面污染也一定高。()
A.
错误
B.
正确
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【单选题】表面污染通过()可以知道。
A.
视觉
B.
嗅觉
C.
表测
D.
手摸
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【单选题】表面污染间接测量法测量的结果是( )。
A.
可去除的表面污染
B.
固定的表面污染
C.
可去除的和固定的表面污染
D.
以上全错
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【单选题】承运运输等级I级的放射性同位素包裹时,应审核“铁路运输放射性物质包装件表面污染及辐射水平检查证明书”,其包装件表面最大辐射水平不超过( )mSv/h。
A.
0.004
B.
0.005
C.
0.006
D.
0.01
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【单选题】人体皮肤的β放射性表面污染限值为()。
A.
4Bq/cm
B.
0.4Bq/cm
C.
40Bq/cm
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