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"晶格损伤"相关考试题目
1.
离子注入法要比扩散掺杂法速度快,但会带来晶格损伤,消除晶格损伤的常见方法是
2.
绿色钻石的颜色与()造成的晶格损伤有关。
3.
当高能离子进入到硅片后,由于碰撞作用,使晶格原子离开原来的位置,出现晶格损伤。
4.
在离子注入后,通常采用退火措施,可以消除由注入所产生的晶格损伤, 常用的退火方式有 、 、 。
5.
离子注入是杂质掺杂的一种方式,它的优点是不会造成晶格损伤。
6.
离子注入的晶格损伤
7.
当高能离子进入到硅片后,由于碰撞作用,使晶格原子离开原来的位置,出现晶格损伤。
8.
离子注入(Ion Implant)后需要退火(Annealing),Annealing的目的是消除晶格损伤和 。
9.
离子注入之后为修复晶格损伤和激活杂质,必须进行退火